华为新专利公开:能提高晶圆对准效率、精度

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12月16日消息,近日国家知识识产权局公告, 华为技术有限公司申请一项名为“晶圆处理装置和晶圆处理方法”的专利获批,公开号CN117219552A,申请日期为2022年6月。

专利摘要显示,本公开的实施例涉及晶圆处理装置和晶圆处理方法。

华为新专利公开:能提高晶圆对准效率、精度

晶圆处理装置包括:晶圆载台,晶圆载台可沿旋转轴线旋转;机械臂,包括机械手,用于搬运晶圆并将晶圆放置在晶圆载台上;控制器;以及校准组件。

包括:光栅板,相对于晶圆载台固定;光源,相对于光栅板固定;以及成像元件,固定设置在机械臂上,并且适于接收从光源发出的、透过光栅板的光。

其中,控制器被配置成基于成像元件对接收到的光的检测,控制机械臂或机械臂上的调整装置来调整晶圆的位置。

华为新专利公开:能提高晶圆对准效率、精度

在晶圆载台承载晶圆的情况下,光栅板和成像元件分别位于晶圆载台的上表面所在平面相对两侧,上表面用于承载晶圆。

本公开的实施例提供的装置和方法能够提高晶圆对准效率和对准精度。

据悉,截至2022年底,华为持有超过12万项有效授权专利,主要分布在中国、欧洲、美洲、亚太、中东和非洲。

其中,华为在中国和欧洲各持有4万多项专利,在美国持有22000多项专利。

华为新专利公开:能提高晶圆对准效率、精度

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【来源:快 科技 】

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