ASML 推出 High NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5000 乐高套装

12 月 2 日消息，ASML 在官网纪念品商城上架了一款特殊的产品：世界首型 High NA EUV 光刻系统 TWINSCAN EXE:5000 的乐高模型套装。

TWINSCAN EXE:5000 光刻机是首款采用 0.55NA 数值孔径的光刻机，其分辨率达 8nm，成像对比度较此前的 NXE 系列 0.33NA EUV 系统高 40%，支持 2nm 逻辑节点图案化，单价达 3.5 亿欧元（IT之家备注：当前约 26.8 亿元人民币）。

▲ 左侧为实物，右侧为乐高模型

▲ 模型另一侧

▲ 桌面效果

该乐高套装由 ASML 开发人员 —— 同样也是乐高爱好者 —— Rick Lenssen 设计， 拥有 851 个部件，宽高深三维 352×99×64 mm ，定价 227.95 美元（当前约 1653 元人民币）。

Rick Lenssen 此前曾耗时合计 2.5 年（1.5 年设计蓝图、1 年实际组装）用乐高积木复现了 ASML 的费尔德霍芬主园区，还推出过多款 ASML 主题的乐高套装产品。

▲ASML 费尔德霍芬主园区。图源 Rick Lenssen 个人网站，下同

▲ ASML 老 Building (1)

▲ASML 费尔德霍芬园区部分建筑

【来源： IT之家 】