中达瑞和参加“第五届高光谱技术及应用研讨会”并受邀做专题报告

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10月29日-31日,“第五届高光谱技术及其应用研讨会”在中科院上海会议中心召开,会议由中国光学工程学会主办,中国科学院上海分院、中国科学院上海技术物理研究所等多家领域内的权威机构承办,由王建宇院士、顾逸东院士担任大会主席,并邀请业内多位专家学者出席大会作特邀专家报告。该会议两年一次,是目前国内高光谱领域专业水平最高的会议。本次会议报告内容包含:高光谱遥感成像技术、成像光谱仪器与设备、计算光谱探测技术、高光谱数据处理和高光谱数据应用等九个专题,旨在进一步加强高光谱遥感技术交流与发展、总结和推广数据应用以及推进我国光谱成像技术领域成果展示。作为国内自主研制核心器件的高光谱成像设备企业,中达瑞和应邀参加会议,与参会的专家学者和企业界同行进行了深入交流研讨。

中达瑞和参加“第五届高光谱技术及应用研讨会”并受邀做专题报告

中达瑞和首席科学家罗飞博士作为本次会议特邀专家之一,受邀在会上做了“基于光计算的光谱技术及应用开发”的主题演讲报告,介绍了光计算光谱成像技术、光计算器件设计思路与应用领域,阐述了光计算光谱成像技术在动态物质识别、分析应用上的优势特点,引起了参会代表的广泛关注,特别是中达瑞和作为为数不多的企业界参会厂商,能够将理论方法与核心器件制造、产品开发相结合,受到与会代表的高度好评。

中达瑞和参加“第五届高光谱技术及应用研讨会”并受邀做专题报告

中达瑞和罗飞博士作专题报告

会议期间,中达瑞和在现场展示了新一代液晶可调谐滤波器(LCTF)、凝视型高光谱成像仪(SHIS)、高光谱成像系统,以及高光谱云平台。中达瑞和的新一代凝视型高光谱成像仪(SHIS)凭借体积小、精度高,面阵成像,无需复杂的推扫装置和易用性等优势,受到大家热情围观。相比上一代产品,新产品在整机性能上实现了全面提升,可实现任意波长更高清、更高精确度、更快速的高光谱成像,主要表现在以下几点:

1.实现了更广的光谱覆盖范围,提供了更多科研及行业应用的可能。

2.拥有更高的光谱分辨率,更高的采集精度和更快的采集速度。

3.采用更高分辨率的科学及传感器,拥有更高的成像质量,在空间分辨率上较光栅型成像仪,优势更加突出。

4.加入主动温控模块,用以更好的适应户外场景的应用。

5.采集分析软件上,可实现光谱采集波段范围的精准控制与灵活设置。

多位专家就该产品及高光谱成像技术在食品快检、物候观测、文物保护、生物医疗、大数据处理等领域的发展与应用进行交流与探讨,并对中达瑞和在高光谱核心器件及产品自主研发与创新能力上给予充分肯定。

中达瑞和参加“第五届高光谱技术及应用研讨会”并受邀做专题报告

中达瑞和专注于高光谱成像领域十余年, 为各大科研院所、高校、农业、公安刑侦、生物医学、工业检测等行业提供高光谱核心器件、前端采集设备、光谱成像系统和解决方案。未来,为了实现高光谱“看得更清、看得更准,看得更快”,高光谱技术及应用还存在着更高的要求和挑战,中达瑞和本着 “行业进步,产业发展,企         业兴旺”的开放理念,愿与高光谱行业的科研院所、专家学者、行业友商,就高光谱产品研制及行业应用落地,积极交流探讨,探讨合作共享,共谋行业发展,实现核心技术国产化、高新技术应用化,让高光谱技术和应用提高生产效率、推动社会发展。

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